光刻胶最新资讯-快科技--科技改动未来

　　快科技10月26日音讯，我国光刻胶范畴获得新打破！ 据科技日报报导，近来，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者经过冷冻电子断层扫描技能，初次在原位状态下解析了光刻胶分子在液

　　快科技9月8日音讯，EUV光刻机是制作5nm以下工艺的要害设备，相同重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣告国内首个把握EUV光刻胶核心技能的渠道启动了。 来自无锡政府网站的音讯，9月4日2025集成电路

　　快科技7月24日音讯，据清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻资料上获得重要发展，开宣布一种根据聚碲氧烷的新式光刻胶，为先进半导体制作中的要害资料供给

　　1月8日音讯，近来，新加坡毕盛财物办理(APS Asset Management, “APS”) 的创始人兼联席首席出资官王国辉(Wong Kok Hoi)在承受彭博电视台的专门采访时表明，中芯世界可经过其优势在

　　快科技10月25日音讯，据华中科技大学官微音讯，近来，该校武汉光电国家研讨中心团队，在国内首先霸占组成光刻胶所需的质料和配方，助推我国芯片制作要害原资料打破瓶颈。 据介绍，其研制的T150

　　快科技10月15日音讯，据“我国光谷”大众号，日前，武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，经过半导体工艺量产验证。 T150 A光刻

　　快科技4月2日音讯，据湖北九峰山实验室官微音讯，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研讨团队，支撑华中科技大学团队打破“双非离子型光酸协同增强呼应的化学扩大光刻胶”技能。 据

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